针对高精细化和高功能化的显示屏、半导体及电子部件市场，开发、生产和销售用于各种生产工艺的药液。我们以本公司独有的开发力为武器，拥有超越其他公司的优越性能的产品阵容，对电子工业产业整体的发展作出贡献。
以用于液晶显示屏中彩膜的显影液为主，还拥有基板玻璃玻璃基板清洗剂、应对各种金属配线的光刻胶剥离液等产品。
| 商品名 | 种类 | 使用方法 | 特征 |
|---|---|---|---|
| NK disperse HA | CF显影液 | 稀释 | 普通无机碱基的CF显影液 |
| NK disperse DX | CF显影液 | 稀释 | 应对COA的有机碱基的CF显影液 |
| NK poleve 117 | 光刻胶剥离液 | 原液 | 具有Cu防蚀性能的有机碱性剥离液 |
| NK E-cleaner S TKA | 玻璃清洗剂 | 稀释 | 有机碱基的玻璃清洗剂 |
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我们拥有应对于高精细光刻工艺的各种显影液、剥离液的产品。此外还包括在WLP工艺中使用的厚膜负性光刻胶以及干膜光刻胶用剥离液、干式蚀刻后残渣去除液等。还可以提供符合各种法律规定的产品以及不含NMP等环境友好型的药液。
| 商品名 | 种类 | 应对金属 | 特征 | |
|---|---|---|---|---|
| Al | Cu | |||
| NK disperse UT 系列 |
显影液 | 〇 | 〇 | 具有金属防蚀、微细加工等各种特征的显影液系列 |
| NK poleve 517 |
光刻胶剥离液 | 〇 | 〇 | 泛用光刻胶剥离液 |
| NK poleve 496 |
光刻胶剥离液 | 〇 | 〇 | 也可应对于变质光刻胶(博世工艺、TSV工艺等)的高性能剥离液 |
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样品构造
处理前
25℃／5min 浸渍后
我们拥有用于清洗电子部件助焊剂等各种清洗剂的产品。不含氟、氯等任何卤素类溶剂，是环境友好型清洗剂。另外还可提供助焊剂清洗以及脱脂用清洗等适宜于各种用途的清洗剂。
| 商品名 | 种类 | 特征 |
|---|---|---|
| NK E-cleaner SO RF | 泛用清洗剂 | 应对于各种用途的有机物污垢的清洗剂 |
| NK E-cleaner SO C175 | 助焊剂清洗剂 | 对助焊剂具有高溶解性的清洗剂 |
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